師資總表

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許光城、涂見安、林育德，2008，“運用平行處理於含自組性抗沾黏層之高分子奈米壓印成形分析，”中華民國力學學會第三十二屆全國力學會議，嘉義縣，國立中正大學，2008/11/28~29，論文編號：P002。(NSC 96-2221-E-151-040)
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